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发布时间:2022-06-08 05:09:04
腐蚀是将金属工件使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。
腐蚀技术可以分为『湿腐蚀』(wet etching)及『干腐蚀』(dry etching)两类。
通常所指腐蚀也称光化学腐蚀(photochemical etching),指通过贴不干胶;***制版、显影后或丝印网版形成图像转移,将需腐蚀区域的保护油墨去除露出需要腐蚀的地方,在腐蚀时金属接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。
早可用来制造铜版、锌版、不锈钢等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板,广告牌标牌及传统加工法难以加工之薄形工件等之加工;经过不断的技术改良和工艺设备发展,也可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密腐蚀产品的加工,特别在半导体制程上,腐蚀更是不可或缺的技术。
比如不锈钢过滤网片,圆孔均为采用镂空腐蚀工艺成型。
工艺流程:清洁工件去油污(不锈钢或其他金属工件)--- 涂布---烤干---***--- 显影--蚀刻—退膜
金属在蚀刻机中的腐蚀过程,首先是在金属零件表面发生晶粒的溶解作用,其次在晶界上也发生溶解作用,一般来讲,晶界是以不同于晶粒的溶解速度发生溶解作用的。
在大多数金属和合金的多晶体结构中,各个晶体几乎都能采取原子晶格的任何取向。而晶粒的不同取向、晶粒密度的大小及杂质都会和周围的母体金属形成微观或超微观原电池。所以,对于金属在蚀刻液中来讲,一方面这些原电池的存在,使金属表面存在着电位差,电位正的地方得到暂时的保护,电位负的地方在腐蚀机中被优先蚀刻。另一方面在零件表面具有变化着的原子间距,而且原子间距较宽的地方溶解速度迅速,一直到显示出不平整的表面为止。然后,溶解作用将以几乎是恒定的速度切削紧密堆积的原子层,表面的几何形状也随着晶粒的溶解而继续不断地变化。晶界上的蚀刻也将进一步影响零件表面。在晶界上晶格的畸变和富集的杂质,常常导致更加快速的蚀刻作用,从而可能会使整个晶粒受到凹坑状的蚀刻。晶粒尺寸越小,蚀刻后表面粗糙度越低,这也可以从实际生产中得到证实。在生产中往往都是材料越均匀致密其表面越平滑。
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