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***近光刻机和蚀刻机一直都是当前***热的话题，可以说光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，要想制造的芯片，这两个东西都必须。    这俩机器***简单的解释就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面，刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉，这样看起来似乎没什么难的，但是有一个形象的比喻，每一块芯片上面的电路结构放大无数倍来看比整个北京都复杂，这就是这光刻和蚀刻的难度。    光刻的过程就是现在制作好的硅圆表面涂上一层光刻胶（一种可以被光腐蚀的胶状物质），接下来通过光线（工艺难度紫外光＜深紫外光＜极紫外光）透过掩膜照射到硅圆表面（类似投影），因为光刻胶的覆盖，照射到的部分被腐蚀掉，没有光照的部分被留下来，这部分便是需要的电路结构。    蚀刻分为两种，一种是干刻，一种是湿刻（目前主流），顾名思义，湿刻就是过程中有水加入，将上面经过光刻的晶圆与特定的化学溶液反应，去掉不需要的部分，剩下的便是电路结构了，干刻目前还没有实现商业量产，其原理是通过等离子体代替化学溶液，去除不需要的硅圆部分。






不锈钢蚀刻机***的形态和蚀刻区的分布，分为蚀刻和局部蚀刻。蚀刻，是指蚀刻分布千整个不锈钢的表面。蚀刻有各处的蚀刻程度相同的均匀蚀刻，也有不同蚀刻区蚀刻程度不同的非均匀蚀刻。在用酸洗液清洗钢铁、铝设备时发生的蚀刻一般属千均匀蚀刻。而蚀刻主要集中在不锈钢表面的某些区域称为局部蚀刻。尽管此种蚀刻的蚀刻量不大，但是由千其局部蚀刻速度很大，可造成设备的严重***，甚至，因此，其危害更大。不锈钢在不同的环境条件下可以发生不同的局部蚀刻。例如孔蚀、缝隙蚀刻、应力蚀刻、晶间蚀刻、磨损蚀刻等。还有按蚀刻的环境条件把蚀刻分为高温蚀刻和常温蚀刻：干蚀刻和湿蚀刻等。

1.蚀刻方法的挑选：金属材料蚀刻的方式依据工件与饱和溶液的触碰方式具体有二种，即 喷洒式和浸泡式。蚀刻方法的挑选标准有下列二种。 （1）总产量：喷洒式蚀刻、速度更快、高精度，合适有一定大批量的生产制造，生产便于完成机械自动化，但机器设备资金投入大，与此同时都不适合对异性朋友工件及大中型工件的蚀刻：浸泡式蚀刻机器设备付出小，蚀刻便捷，适用工件覆盖面广，但不适宜于大批的生产制造，与此同时浸泡式蚀刻较喷洒式速度比较慢，相对而言要低，生产过程不容易完成机械自动化。 （2）工件形状及尺寸：针对大中型工件因为受机器设备的限定，采用喷洒式蚀刻 难以开展，而浸泡式就不容易受工件尺寸的危害。工件形状繁杂，在喷洒时有一些位置会发生喷洒不上的具体情况而危害蚀刻的正常开展，而浸泡式因为是将工件全部浸泡在蚀刻液中，只需维持蚀刻液和工件中间的动态性，就能确保异性朋友工件的各种位置都能充斥着蚀刻液并开展新液与旧液的持续拆换，使蚀刻能一切正常开展。 针对并不大的平面图或是几面图的工件假如情况容许，采用喷洒式蚀刻无论是或是精密度都好于浸泡式蚀刻，因此，针对大批量大，工件尺寸适度（与机器设备相关）、形状简易的平面图形状的工件以采用喷洒式为优选；假如工件外观设计较为大无法采用蚀刻机，工件形状繁杂，大批量并不大，这时以采用浸泡式为宜。